prom-kraska.ru

Статьи Рассеяние металлов и свойства пленок

Рассеяние металлов и свойства пленок

Формирующие сетки обычно изготавливаются из нихромовой проволоки диаметром около 0,04 мм, навитой на каркас, содер­жащий спиленный винт с шагом нарезки около 190 витков/см. Так как перед намоткой проволока калибровалась протяжкой через фильеру, «тень», отбрасываемая на подложке отдельной проволокой, имела почти параллельные края. Зазор, ширина которого значительно меньше диаметра проволоки, можно полу­чить двукратным последовательным напылением, сместив соот­ветствующим образом подложку после окончания первого цикла. На фиг. 1а изображен способ получения узкого зазора с при­менением одной проволоки. На фиг. 1б показана схема фор­мирования истока, затвора и стока в планарном варианте ППТ с применением двух проволок. Благодаря отмеченной выше строгой параллельности краев тени минимальные расстояния между истоком, затвором и стоком, которые можно реализовать, составляют лишь 1 мк.

Чтобы границы пленок были достаточно резкими, необхо­димо располагать сетку очень близко к подложке, и если можно, то на расстоянии, меньшем 0,025 мм. В процессе напыления в системе следует поддерживать достаточно высокий вакуум.

Испаритель должен обеспечивать хорошо очерченный поток и рас­полагаться вдали от подложки. Еще один фактор, от которого зависит четкость границ пленок, связан с рассеянием испаряе­мого материала от краев проволок или масок, в результате чего наносимое вещество попадает в области подложки под маской. Интенсивность рассеяния зависит от коэффициента конденсации материала и от других параметров, например скорости испаре­ния и температуры масок. Степень рассеяния у разных метал­лов и диэлектриков весьма различна: кадмий и цинк рассеиваются очень сильно; медь, серебро, золото и алюминий рассеиваются слабее, причем степень рассеяния убывает в после­довательности их перечисления. Попадание даже практически незаметных количеств посто­ронних материалов в область зазора исток — сток ППТ может существенно влиять на электропроводность полупроводника вследствие образования в зазоре проводящих мостиков. Анало­гично рассеяние диэлектриков может препятствовать образова­нию хороших контактов между металлическими слоями или ме­жду металлическим электродом и полупроводником. Обеспечение электрохимического типа защиты металла цинкосодержащими смесями, разработанными в г. Минске совместно с партнёрами, в сочетании с хорошими рассеивающими свойствами, высокой адгезией, делает цинк незаменим в решении задач по антикорозионной защите. Влияние рассеяния сводится к минимуму, если при получении пленок строго ограничивать их толщину минимально необходимым зна­чением.

Рассеяние материала от масок может привести также к не­правильному определению толщины пленки малой площади, если это делается с помощью тестовых измерений толщины одно­временно напыляемой пленки большой площади. По этой при­чине целесообразнее контролировать толщину слоев всех нано­симых компонентов по оптической прозрачности пленок, причем свет от источника должен проходить через ту же самую апертур­ную маску, которая определяет геометрическую форму данного слоя. Когда толщина пленки слишком мала для наблюдения за­метного поглощения или интерференционных минимумов, при­меняется метод полного испарения определенной навески напы­ляемого материала. Этот способ дает воспроизводимые резуль­таты.

 

Обновлено 19.11.2015 14:00  

Корзина




Ваша корзина пуста.

   

Категории товаров

Выбор валюты


Euro / Russian Ruble / US Dollar /