Части рецептур, влияющие на матируемость УФ-отверждаемых материалов

Степень блеска, которая получается в процессе нанесения на двойных вальцах с промежуточным гелированием (с расходом 5 г/м² на одном вальце) такая же, как и при нанесении технологии с одним вальцем (10 г/м²) с тем же составом и количеством наносимого вещества. Но качество поверхности и полнота метода «вальцы-УФ-гелирование-вальцы» в дальнейшем превосходит качество поверхности при простом нанесении вальцами.

Для достижения более низкой степени блеска и оптимального качества поверхности предпочтительнее метод «вальцы-УФ-гелирование-вальцы» по сравнению с методом нанесения «мокрое по мокрому» и простым вальцеванием. Метод «мокрое по мокрому» не очень подходит для получения сильно матовых покрытий, так как при необходимой высокой концентрации матирующего средства не может быть обеспечена стабильность нанесения на вальцах.

Опыт показывает, что различная степень блеска может быть достигнута дозированием УФ-облучения также, как и при отборе матирующего средства. Не существует универсального матирующего средства для УФ-отверждаемых материалов, которое можно было бы использовать независимо от выбора плен-кообразователя, толщины слоя покрытия и других факторов. На матируемость УФ-отверждаемых материалов влияют следующие составные части рецептур и параметры процесса переработки.

УФ-пленкообразующие/мономеры:

•    тип пленкообразователя (простые полиэфирные, сложные полиэфирные, эпокси, уретан-акрилаты и др.);

•    УФ-активность пленкообразователя (функциональность/молекулярномассовое распределение);

•    вязкость пленкообразующего и рецептуры в целом;

•    тип мономеров (функциональность);

•    соотношение пленкообразующего и мономера в смеси.

Сочетание фотоинициатор/синергетик:

•    тип фотоинициатора;

•    тип синергетика (тип амина);

•    добавляемое количество фотоинициатора/аминового синергетика. Матирующие средства:

•    добавляемое количество;

•    объем пор в мл/г;

•    распределение частиц по размерам;

•    обработка поверхности восками.

Параметры процесса переработки:

•    количество наносимого материала (толщина слоя);

•    температура субстрата и наносимого материала;

•    время успокоения перед УФ-отверждением (Flash off-зона);

•    скорость воздушного потока при подсушивании / УФ-отверждении;

•    доза энергии облучения и различная интенсивность используемых УФ-ламп;

•    спектральный диапазон используемых УФ-ламп;

•    Dual-Cure-процесс УФ-отверждения в присутствии кислорода и/или в инертной атмосфере (процесс двухстадийного УФ-отверждения).

•    Добавление органических растворителей.

•    Физическое матирование покрытия эксимерным облучением.