История развития исследований отражения в вакуумном ультрафиолете

Впервые исследование отражения в области вакуумного ультрафиолета было проведено Гарднером в 1917 г. Он определил коэффициенты отражения ряда материалов, а именно Al, Си, Аи, Ni, Pt, Si, Ag, стеллита и стали, по отношению к зеркалу из хорошо полирующегося сплава олова и меди («спекулум») в области от 1640 до 1030 А. Гарднер обнаружил, что из исследованных материалов наибольшим коэффициентом отражения обладает полированный кремний, и высказал замеча­тельную мысль относительно распыленной платины: «Она мо­жет обладать преимуществами перед другими металлами при работе в области длин волн, меньших 1070 А». Гарднер ис­пользовал технику фотографии, и зеркала были наклонены под углом 45° к падающему лучу.

В 1926 г. Пфанд опубликовал данные по величине абсо­лютного отражения в области 912—1216 А. В 1929 г. Глисон с помощью техники фотографии и при угле падения 45° произ­вел обширные исследования абсолютного отражения Al, Be, ла­туни, Cr, Au, Ni, Pt, Si, Ag, «спекулума», стали, стеллита, флюо­рита, стекла и кварца. Измерения проводились при Х = Б84 А и в диапазоне от 1216 до 1850 А. Исследуемые поверхности изгото­влялись распылением (в некоторых случаях для получения в до­статочной степени непрозрачных пленок требовалось 2 суток), электролитическим осаждением, химическим осаждением и по­лировкой. Глисон указал на значительное уменьшение отраже­ния многих зеркал со временем. Исследования в области вакуума стали основой для развития таких технологических процессов как спекание, сварка и пайка в вакууме, применяемые в производстве радиотехнической промышленности, микроэлектронике. Контрактное производство электроники сейчас - интересный сегмент рынка, где производители готовы реализовать индивидуальные заказы.

Следующий значительный успех был достигнут в 1939 г., когда Сабайн провел весьма полное изучение отражения многочисленных пленок, полученных термическим испарением в вакууме. Он исследовал отражение Al, Sb, Be, Bi, Cd, Cr, Cu, Au, Fe, Pb, Mg, Mn, Mo, Ni, Pd, Pt, Ag, Те, Ti, Zn и Zr. По сути дела именно эта работа указала на очень высокое отражение тонких пленок в области вакуумного ультрафиолета, так как напылен­ные пленки в общем обладают большим отражением, чем полу­ченные катодным распылением. Исследование отражения произ­водилось в диапазоне от А, = 450 А до видимой области спектра. В области вакуумного ультрафиолета в качестве приемника использовалась покрытая маслом фотографическая пленка, при­чем была оценена наибольшая ошибка, связанная с неоднород­ностью по толщине этой сенсибилизирующей пленки масла. Для больших коэффициентов отражения ошибка при измерении от­ражения составляла 5%, но она существенно возрастала, если коэффициент отражения становился меньше 10%. Отражение измерялось при угле падения 18°. Все пленки после их изгото­вления экспонировались на воздухе перед измерением.