Обработка дифракционных решёток в разряде тока происходит следующим образом. В обычной камере для испарения диаметром 45 см зажигается тлеющий разряд на время 30 сек при напря­жении 4500 в и токе 90 ма. За это время разряда решетка не успевает существенно нагреться. Таким образом, исключается опасность введения или проявления деформаций в решетке, а в случае решеток на основе реплик исключается возможность размягчения пластмассовой или эпоксидной связки.

При установке решетки в камеру для напыления необхо­димо учитывать следующие важные моменты. Если решетка имеет глубокую нарезку и рассчитана на большой угол сколь­зящего падения, то напыление следует производить при таком положении основы решетки, когда плоскость рисок перпендику­лярна блоку испарителей. Однако если нарезка мелкая или угол падения мал, то необходимость таких предосторожностей отпа­дает. Следует также рассмотреть ожидаемое разрешение реше­ток. Можно рассчитать необходимую точность рисунка на по­верхности и подобрать такое взаимное расположение элементов при испарении, что получаемая при этом неоднородность напы­ленной пленки по толщине не будет снижать разрешение решетки. В случае вогнутой решетки с высоким разрешением, устанавливаемой симметрично по отношению к испарителям, же­лательно, чтобы вводимые при искажении ошибки лишь незна­чительно изменяли радиус кривизны сферы.

На подготовленную таким образом решетку можно испаре­нием нанести любое покрытие, увеличивающее отражение, или любой отражающий фильтр, которые будут рассмотрены в сле­дующем разделе. При нанесении пленки одного металла на дру­гой в некоторых случаях можно увеличить срок службы системы за счет введения слоя буферного диэлектрика, который препят­ствует взаимной диффузии или реакции между металлами.