Обработка дифракционных решёток в разряде тока происходит следующим образом. В обычной камере для испарения диаметром 45 см зажигается тлеющий разряд на время 30 сек при напряжении 4500 в и токе 90 ма. За это время разряда решетка не успевает существенно нагреться. Таким образом, исключается опасность введения или проявления деформаций в решетке, а в случае решеток на основе реплик исключается возможность размягчения пластмассовой или эпоксидной связки.
При установке решетки в камеру для напыления необходимо учитывать следующие важные моменты. Если решетка имеет глубокую нарезку и рассчитана на большой угол скользящего падения, то напыление следует производить при таком положении основы решетки, когда плоскость рисок перпендикулярна блоку испарителей. Однако если нарезка мелкая или угол падения мал, то необходимость таких предосторожностей отпадает. Следует также рассмотреть ожидаемое разрешение решеток. Можно рассчитать необходимую точность рисунка на поверхности и подобрать такое взаимное расположение элементов при испарении, что получаемая при этом неоднородность напыленной пленки по толщине не будет снижать разрешение решетки. В случае вогнутой решетки с высоким разрешением, устанавливаемой симметрично по отношению к испарителям, желательно, чтобы вводимые при искажении ошибки лишь незначительно изменяли радиус кривизны сферы.
На подготовленную таким образом решетку можно испарением нанести любое покрытие, увеличивающее отражение, или любой отражающий фильтр, которые будут рассмотрены в следующем разделе. При нанесении пленки одного металла на другой в некоторых случаях можно увеличить срок службы системы за счет введения слоя буферного диэлектрика, который препятствует взаимной диффузии или реакции между металлами.
< Предыдущая | Следующая > |
---|