ОТРАЖЕНИЕ НАПЫЛЕННЫХ ПЛЕНОЧНЫХ СИСТЕМ В ОБЛАСТИ ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТА

Хорошо известно, что в видимой области спектра можно по­лучить большое число разнообразных характеристик фильтров на отражение и пропускание, используя различные комбинации только двух прозрачных материалов—одного с низким, а другого с высоким показателями преломления. Хорошо разработана тео­рия таких фильтров. В настоящий момент большой интерес представляет разнообразие характеристик пленочных систем на основе использования для этих целей неоднородных пленок, ко­торые могут быть созданы либо попеременным, либо одновре­менным испарением двух веществ. Огромное значение имело бы открытие двух таких прозрачных и стабильных материалов, ко­торые могли бы служить отражающими покрытиями и филь­трами для вакуумного ультрафиолета. Для длинноволновой об­ласти вакуумного ультрафиолета, по-видимому, можно полу­чить такие покрытия, но для области А<1050 А все известные материалы с низким коэффициентом поглощения легко окис­ляются, а окислы обладают большим поглощением.

Теория оптических свойств систем, содержащих тонкие по­глощающие пленки, гораздо более сложна, и получить общие результаты трудно. Однако имеются программы расчета, которые позволяют вычислить характеристики любой типичной комбинации пленок для данной длины волны и данного угла падения, если известны оптические постоянные и толщины пле­нок. Когда будет иметься большое число веществ с известными оптическими постоянными в области вакуумного ультрафиоле­та, мы сможем использовать эти программы расчета для выбора пленочных систем с необходимыми оптическими харак­теристиками.