Диэлектрические свойства тонких пленок
Множество диэлектрических материалов используется оптической промышленности для покрытия линз и в электронике для получения изолирующих пленок. Между тем только моноокись кремния относительно хорошо изучена с точки зрения влияния остаточных газов на свойства пленок. Поэтому основное внимание в данном разделе будет прежде всего уделено обсуждению свойств пленок, приготовленных сублимацией массивной моноокиси кремния.
Состав материала, испаряющегося из испарителя, в который загружен SiO, зависит от температуры испарителя. Так, Хасс сообщил, что при увеличении температуры испарителя плотность пленок окиси кремния возрастает вследствие увеличения содержания кремния. Это подтверждается также оптическими и электронографическими исследованиями. Прист и Касуэлл показали, что остаточные механические напряжения в пленках окиси кремния, полученных при низких давлениях (~5*10-6 мм рт. ст.), зависят только от температуры испарителя вследствие температурной зависимости состава испаряющегося материала.
Остаточные газы также влияют на состав пленок окиси кремния, полученных из SiO. Несколько лет назад Хасс и Зальцберг установили, что можно получить сильно окисленные пленки кремния, если испарять SiO с низкой скоростью (меньше 3 А/сек) в плохом вакууме (10~4 мм рт. ст.). Позже Прист исследовал влияние некоторых остаточных газов на остаточные напряжения в пленках окиси кремния. Он нашёл, что остаточные газы не оказывают ощутимого воздействия на свойства пленок, нанесенных при температурах испарителя выше 1300° С.
